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viernes, 5 octubre 2018
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MBFW promete ser uno de los escenarios más importantes de los últimos tiempos

Una de las vitrinas de clase mundial más relevantes para la moda latinoamericana estará convocada por primera vez en el icónico edificio del Museo de Arte Contemporáneo (MAC) este 9, 10 y 11 de octubre.

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La moda chilena por primera vez se da cita en un histórico lugar de Santiago, el Museo de Arte Contemporáneo (MAC) y da paso a la IV edición del Mercedes-Benz Fashion Week Chile 2018 (MBFW), uno de los eventos de moda y diseño de autor más importante de Latinoamérica, que -en esta oportunidad- amplía sus días de desfile.

La elección de este nuevo escenario ha implicado un desafío para la producción, que contará con más de 100 montajistas que estarán involucrados en este proyecto de acondicionar en tan sólo 48 horas un recinto destinado a la exhibición de obras de arte, en un escenario de más de nueve metros con cuatro pasarelas por donde desfilarán más de 50 modelos con creaciones de 12 diseñadores nacionales e internacionales.

Con más de 200 focos fijos, robóticos, dos pantallas de 12 metros, sistemas de audio, mapping en fachada del MAC y equipos de última generación, esta versión del MBFW Chile promete ser uno de los escenarios más importantes de los últimos tiempos.

Esta cuarta versión de Mercedes-Benz Fashion Week Chile contará con los más destacados diseñadores nacionales y de la región, generando una instancia de primer nivel para mostrar la vanguardia de la industria de la moda. Las creaciones de los diseñadores nacionales Munay Sisters, DC, Isabel Felmer, Qüina, La Gaviota, Lupe Gajardo, Kokoro, Mo Store y Kika Neumann, compartirán pasarela con Julia y Renata de México, Weider Silveiro de Brasil y Chain de Argentina. Cada diseñador mostrará un avance de lo que desarrollará en su colección 2019 y el concepto que guiará las colecciones será la “atemporalidad”, situando el foco fuera de los clásicos paradigmas estacionarios otoño/invierno y primavera/verano.

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